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碳化硅膜层厚度与颜
题主想要问的是碳化硅膜层厚度与颜 有什么关系？厚度不同，颜 随着变化。根据搜索今日头条显示，碳化硅的外观颜 除与晶体本身的 泽有关外还与自然光在晶体表面薄膜的干涉现象有关。当碳化硅晶体表面的氧化硅薄膜厚度不同时，或对光线的反射角度不同时，碳化硅晶体表面的呈 亦名不相同。
蓝宝石本身是热的不良导体，并且在制作器件时底部需要使用银胶固晶，这种银胶的传热性能也很差。使用碳化硅衬底的芯片电极为L型，两个电极分布在器件的表面和底部，所产生的热量可以通过电极直接导出；同时这种衬底不需要电流扩散层，因此光不会被电流扩散层的材料吸收，这样又提高了出光效率。
- 气相沉积（CVD）法：通过高温使气相中的材料在衬底上沉积成薄膜。- 物理气相沉积（PVD）法：通过物理方法将物质从固态源转化为气态，然后在衬底上沉积生成薄膜或多层膜。- 束外泻晶生长（PECVD）法：利用等离子体中的激发态粒子催化反应产生碳化硅膜，适用于高质量碳化硅膜的低温生长。
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